其它实验室常用设备武汉月忆紫外掩膜光刻机 应用于机械设备

其它实验室常用设备武汉月忆紫外掩膜光刻机 应用于机械设备有特定规范与标准，应用于汽车/铁路/船舶行业领域。点击查看相关规范标准。

一、URE-2000/35紫外掩膜光刻机产品特征：

URE-2000/35采用自动找平，具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能，自动分离对准间隙和消除 曝光间隙，采用 350W 进口(德国)直流汞灯，可调节光的能量密度。设备外形美观精制，性能非常可靠，自动化程 度很高，操作十分方便。非常适合工厂(效率高，操作傻瓜型，自动化程度高)和高校教学科研 (可靠性好，演示方便)。

二、URE-2000/35紫外掩膜光刻机技术参数：

（1）曝光面积：4英寸

（2）曝光波长：365nm

（3）分辨力：0.8μm

（4）对准精度：±0. 8μm

（5）掩模样片整体运动范围：X：15mm; Y：15mm

（6）掩模尺寸：2.5英寸、3英寸、4英寸、5英寸；

（7）样片尺寸：直径φ10mm-- φ100mm(各种不规则片)；

（8）样片厚度：0.1mm--5mm(可扩展为15mm)；

（9）曝光方式：定时（倒计时方式）和定剂量；

（10）具备真空接触曝光、硬接触曝光、压力接触曝光，以及接近式曝光四种功能；

（11）照明不均匀性： 3%（φ100mm 范围）

（12）双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数400倍，光学+电子放大800倍

物镜三对：4倍、10倍、20倍

目镜三对：10倍、16倍、20倍

（13）调平接触压力通过传感器保证重复；

（14）数字设定对准间隙和曝光间隙；

（15）具备压印模块接口，也具备接近模块接口；

（16）掩模相对于样片运动行程：X: ±5mm;   Y: ±5mm;  θ：±6º

（17）最大胶厚：400μm（SU8胶，用户提供检测条件）

（18）光源平行性：3.5 º

（19）曝光能量密度：>20mW/cm2,照明面温度<35 º

（20） 单层曝光一键完成；

（21）采用球气浮自动找平；

（22）汞灯功率：350W（直流，进口汞灯）；

（23）外形尺寸：1200mm（长）×900mm(宽)×1750mm（高）；

三、配置

（1）曝光头

①冷光椭球镜

②350W进口直流高压汞灯(进口)

③XYZ汞灯调节台

④冷却风扇

⑥光学系统：固定光栏、可变光栏、快门、准直镜镜1、准直镜镜2、蝇眼透镜组（79个透镜）、i线滤光片、场镜1、冷光反射镜1、反射镜2

（2）对准工件台

①掩模样片整体运动台

②掩模样片相对运动台

③转动台

④样片调平机构,自动完成

⑤基片抽拉式上下机构

⑥样片调焦机构，电机自动调

⑦承片台4个：f15mm 、2英寸、3英寸、4英寸（可按用户要求增减）

⑧掩模夹4个：3英寸、4英寸、5英寸（可按用户要求增减）

（3）对准显微镜

①光源（配备品2只）、 电源

②双目双视场对准显微镜主体

③目镜3对（10倍、16倍、20倍，共6个）

④物镜3对（4倍、10倍、20倍，共6个）

⑤CCD对准系统，21寸液晶显示器

（4）电控系统

①汞灯触发电源(350W直流汞灯)

②单片机控制系统

③控制柜桌

（5）气动系统

①气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等

②电磁阀驱动

③气动仪表

（6）其他附件

①真空泵一台

② 空压机一台

③管道

（7）技术资料

①使用维修说明书

②显微镜使用说明书

其它实验室常用设备武汉月忆紫外掩膜光刻机 应用于机械设备信息由武汉月忆神湖科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于其它实验室常用设备武汉月忆紫外掩膜光刻机 应用于机械设备报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途