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骏楠光子DaLI系列无掩膜纳米光刻机

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参考报价: 面议 型号: DaLI
品牌: 骏楠光子 产地: 广东
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供应商性质生产商产地类别国产
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DaLI系列无掩膜纳米光刻机

DaLI无掩膜纳米光刻机是一款采用亚纳米精度激光操控技术为核心的超稳定,桌面型,高精度,高速激光直写设备。其核心技术已经在在亚纳米级精度要求的仪器设备中经过十几年的应用检验。超高精度,和超高稳定性是DaLI无掩膜纳米光刻机实现高性能的基础。
       

miDALIX的核心技术源于Aresis的AOD高精度激光操控技术。Aresisd.o.o.是一家立足于高校和研究所的科研型高科技公司。在过去的二十多年中,Aresis一直致力于基于声光偏转技术(AOD)的各种激光操控研究,并成功地将其研究成果应用于成熟稳定的科研设备开发实践中。基于在高速AOD应用领域的深厚技术积累,Aresis开发了Tweez系列高速多光阱纳米光镊系统和DaLI高精度无掩膜纳米光刻机。为世界范围内的科研工作者提供了技术先进、性能稳定的科研工具,得到了用户的广泛好评。

 Tweez系列光镊系统可同时以亚纳米级定位分辨率操控200个以上目标,并可以实现1pN精度的力学测量,光场均一,系统稳定,在国内已经拥有多家合作应用示范实验室。Jožef Stefan 研究所的Dr Igor Muševič 更是已经应用Tweez系列光镊发表了多篇Sicence  Nature 高水平科研论文。

Aresis、CENN Nanocenter 和德国LPKF联合研发的DaLI 高精度无掩膜纳米光刻机(原Proto Laser LDI),是一款性能稳定,技术可靠,对环境要求低,对于操作者要求简单,界面友好,易于操作,零维护的桌面型高精度激光直写设备。2014年前后,CENN Nanocenter 联合多家顶级实验室发表了多篇Science Nature文章。

  •  2015 Nature Communication  Fast electronic resistance switching involving hidden charge density wave states

  • 2014 Science Ultrafast Switching to a Stable Hidden Quantum State in an Electronic Crystal

为更好地服务于广大的客户, miDALIX与艾锐斯科技(北京)有限公司(Aresis China)先后在欧洲和中国成立。希望能够以我们的努力,为更多的实验室提供一流的设备!


基本特点

超稳定,长时效375nm激

相对于其它各种光源,在精密光学仪器应用中,激光光源在光束质量,稳定性,耐用性等方面具有无与伦比的优越性。DaLI无掩膜纳米光刻机采用最优的激光光源,以保证超一流的性能和用户体验。

广泛的适应性

DaLI无掩膜纳米光刻机广泛适用于各种I-line光刻胶,AZ系列正胶,SU-8系列负胶等,在各种厚胶与薄胶应用中有着出色的表现。

图片.png整机恒温系统,保证最佳的性能

DaLI无掩膜纳米光刻机采用了超越光刻技术极限的亚纳米级AOD激光操控技术,光斑定位精度可达0.1nm。为充分发挥AOD技术的优势,我们建立了整机恒温系统,控温精度可达±0.1℃,将设备所有部件和温差形变和热漂移降到最低,从而实现真正的高精度光刻


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工作范围与曝光拼接

大光斑直写工具单个工作区域 为 900μm X 900μm;

小光斑直写工具单个工作区域为 300μm X 300μm

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工作区域100mm X 100mm 工作区域间的平滑过渡机制(软拼接与硬拼接)

DaLI的软拼接可以将曝光扫描线延伸到临近区域,并梯度降低激光强度(红线)。在临近区域,激光强度梯度增加(蓝线),从而获得干净均一的拼接图案


用户友好的操作软件

DaLI控制软件通过USB接口与设备快速通讯,可以对设计图中的区块和每一个微结构的曝光参数进行设置,对图形设计的预览和快速栅格化,对样品的观察、准直、调平等。该软件具备图形设计和展示功能,可选用多种绘图工具,支持对 dxf, gerber, bm 等格式文件的导入与修改。


先进的AOD技术,定位分辨率优于0.1nm

A. 可以获得任意平滑、锐利的结构边缘

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多重校准/反馈机制

超高精度的先进AOD激光操控技术,使得通过各种校准与反馈机制来提升整机系统的精度和稳定性变得前所未有的简单可行。DaLI具有多种校准和反聩机制,无需用户干预即可完成,为其优异的性能提供更多保障。


两种直写光斑自动切换


A. 小光斑直写工具用于对精度要求较高的图形构建,光斑直径1μm

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基材尺寸DaLI-A基本参数可达100 mm x 100 mm (4’’ x 4’’)
激光波长375 nm
激光光斑尺寸 (TEM00)1 µm (0.04 Mil) and/或 3 µm (0.12 Mil), 用户可自选
激光光斑定位分辨率< 1 nm
激光直写速度可至100 000 spots per second
图形尺寸可至 1 µm (0.04 Mil)
数据输入格式DXF, Gerber, BMP
电源230 V/50 Hz, 100 VA
设备尺寸 (W x H x D)650 mm x 522 mm x 626 mm (25.6” x 20.6” x 24.6”)
重量80 kg (176.4 lbs)
集成摄像头用于样品检测和校正摄像头
硬件和软件的要求配置Windows 7, 32 bit or Windows XP, 32 bit with service pack 3,1.3 GHz processor or higher, 2 GB RAM (4 GB recommended), 160 MB of available hard-disk space for installtion, screen resolution min.1024*768 pixles (1600 x 1050 recommended


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注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

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