400-6699-117转1000
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工商注册信息已核实!参考报价: | 面议 | 型号: | RTP-1200 |
品牌: | 尤尼坦 | 产地: | 韩国 |
关注度: | 135 | 信息完整度: | |
样本: | 典型用户: | 暂无 |
400-6699-117转1000
发布时间:2023年11月
迷你型快速退火炉
RTP-1200
产地:韩国;
型号:RTP-1200;
RTP-1200小型真空快速退火炉(RTP/RTA)为韩国进口的快速退火炉。
该仪器:尺寸小巧,使用风冷、无须水冷,电流要求不高(3安培),性价比高,使用方便,非常适合科研院所的科研使用。
技术规格:
- 加热方式:红外卤素钨灯,600W;
- 卤素红外灯数量:4支;
- 最快升温速率:100℃/秒;
- 最快降温速率:50秒(1000℃ → 400℃);
- 最高温度:1200℃;
- 温度精度:+/-0.3℃
- 最大样品尺寸:20 x 20mm;
- 退火环境:真空、惰性气体、空气、其他工艺气氛(如氧气、氢气等);
- 真空泵及极限压力:机械泵,10-3Torr水平(选配);
- 电压:220 V,单相;
- 仪器尺寸:400*300*450mm (W*D*H);
- 质量:净重30Kg;
仪器特点:
- 可在真空/不同气氛/空气不同环境下,对样品进行快速热处理;
- 温控精度高;
- 适合高校或研究所科研使用;
- 无须额外的冷却系统;
- 紧凑的台式设计;
- 仪器操作方便,样片装取容易;
- 价格合理,高性价比;
应用领域:
- 快速热退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);
- 快速热氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);
- 快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);
- 硅化 (Silicidation);
- 扩散 (Diffusion);
- 化合物半导体退火 (Compound Semiconductor Annealing);
- 离子注入后退火 (Implant Annealing);
- 电极合金化 (Contact Alloying);
- 晶化和致密化 (Crystallization and Densification);
- 合金熔点分析;
- 薄膜沉积;
等等…
参考用户:北京大学、中科院北京纳米所、齐齐哈尔大学、湖南大学、中科院苏州纳米所、吉林大学、南京大学….
Ecopia快速退火炉(4~6英寸)
产地:韩国Ecopia;
型号:RTP-1300/RTP-1600;
RTP-1300, RTP-1600为Ecopia进口真空快速退火炉,仪器带有控制软件,为台式设计。
RT-1300可以退火100mmX100mm尺寸的样品,RTP-1600可以退火150mmX150mm尺寸的样品。
技术规格:
- 加热方式:红外卤素钨灯,1.2KW/支;
- 卤素红外灯数量:12支,或18支;
- 最快升温速率:100℃/秒;
- 最快降温速率:60秒(1000℃ → 400℃);
- 最高温度:1200℃;
- 温度精度:+/-1℃
- 最大样品尺寸:100 X 100mm, 或150mm X 150mm;
- 退火环境:真空、惰性气体、空气、其他工艺气氛(如氧气、氢气等);
- 真空泵及极限压力:机械泵,10-3Torr水平(选配);
- 电压:220 V,单相或三相;
- 仪器尺寸:500 X 400 X 500mm (W X D X H);
- 质量:净重60Kg;
仪器特点:
- 可在真空/不同气氛/空气不同环境下,对样品进行快速热处理;
- 温控精度高;
- 适合高校或研究所科研使用;
- 带有RTP控制软件;
- 紧凑的台式设计;
- 仪器操作方便,样片装取容易;
- 价格合理,高性价比;
应用领域:
- 快速热退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);
- 快速热氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);
- 快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);
- 硅化 (Silicidation);
- 扩散 (Diffusion);
- 化合物半导体退火 (Compound Semiconductor Annealing);
- 离子注入后退火 (Implant Annealing);
- 电极合金化 (Contact Alloying);
- 晶化和致密化 (Crystallization and Densification);
- 合金熔点分析;
- 薄膜沉积;
等等…
RTP-1300快速退火炉参考用户:
北京师范大学、北京理工大学、昆明理工大学、东南大学、西安交通大学、渤海大学、中科院苏州纳米所、国电光伏、苏州新磊等...
高真空快速退火炉(4~6英寸)
产地:法国AnnealSys;
型号:AS-One100/AS-One150
AS-ONE立式快速退火炉为法国AS公司生产,分为AS-ONE 100, 150, 200三个型号,分别对应4英寸、6英寸、8英寸的真空快速退火炉产品。
应用:
- 快速热退火 RTA;
- 快速热氧化 RTO;
- 扩散,接触退火;
- 化合物半导体退火;
- 氮化,硅化;
- 硒化,硫化;
- 石墨烯沉积,碳纳米管生长;
- 晶体化,致密化;
技术规格:
规格 | AS-ONE 100 | AS-ONE 150 |
最大样品基底直径 | 100mm (4英寸) | 150mm (6英寸) |
腔体尺寸 | 130mm直径 x 25mm | 200mm直径 x 25mm |
红外灯数量/最大功率 | 12支 / 30KW | 18支 / 34KW |
红外灯冷却方式 | 风扇 | 风扇 |
标准温度范围 | 室温 ~ 1250°C | 室温 ~ 1200°C |
选配高温版本范围 | 室温 ~ 1500°C | 室温 ~ 1300°C |
升温速度 | 0.1°C ~ 200°C/s | 0.1°C ~ 150°C/s |
温度控制 | 快速数字PID控制器 | 快速数字PID控制器 |
热电偶 | K型 | K型 |
高温计 | 150°C ~ 1100°C 400°C ~ 1500°C | 150°C ~ 1100°C 400°C ~ 1500°C |
气体注入 | 石英视窗以下 | 石英视窗以下 |
清洗气路 | 标准配置 | 标准配置 |
工艺气路方式/数量 | MFC / 5路 | MFC / 5路 |
真空获得系统 | 干泵(10-2Torr) 分子泵(10-6Torr) | 干泵(10-2Torr) 分子泵(10-6Torr) |
尺寸/重量 | 510mm x 1425mm x 800mm / 194Kg | 510mm x 1425mm x 800mm / 240Kg |
参考客户:
清华大学、复旦大学、华南理工大学、天津中电十八所、南京中电五十五所、GE上海研发中心等。
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