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离子溅射仪
全自动磁控离子溅射仪
产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动放气溅射电流范围大溅射效率高颗粒度小样品表面无温升适用温度敏感性样品应用领域场发射电镜、电极制备、温度敏感样品制备技......
全自动磁控离子溅射仪
产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动放气溅射电流范围大溅射效率高颗粒度小样品表面无温升适用温度敏感性样品应用领域放置手套箱内,用于易污染、易氧化需要保护......
SBC-12小型离子溅射仪
SBC-12小型离子溅射仪产品特点:特殊密封结构,玻璃不易损坏操作方便,无需培训即可使用维护成本低,无需上门安装技术指标:真空系统两级直联旋片真空泵真空检测皮氏......
GVC-1000小型离子溅射仪
产品特点全自动控制,无需调整针阀专利结构,靶材更换非常简单特殊密封结构,玻璃不易损伤专利结构,样品台高度调整方便内置操作向导,无需培训即可熟练操作应用领域本仪器......
全自动磁控离子溅射仪
全自动磁控离子溅射仪是一种常用的物理气相沉积(PVD)的方法,具有沉积温度低、沉积速度快、所沉积的薄膜均匀性好,成分接近靶材成分等众多优点。传统的溅射技术的工作......
全自动磁控离子溅射仪
产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动放气溅射电流范围大溅射效率高颗粒度小样品表面无温升适用温度敏感性样品应用领域场发射电镜、电极制备、温度敏感样品制备技......
全自动磁控离子溅射仪
被应用于光学领域。比如被广泛应用于平板显示器件的透明导电玻璃、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器的生产,都离不开磁控溅射技术。产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空......
全自动磁控离子溅射仪
磁控溅射仪是一种利用物理气相沉积的方法在非导电或导电不良的样品上涂布金(Au),钯(Pd),铂(Pt)和金/钯(Au / Pd)薄膜的设备,常用于扫描电镜(SE......
全自动磁控离子溅射仪
产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动放气溅射电流范围大溅射效率高颗粒度小样品表面无温升适用温度敏感性样品应用领域场发射电镜、电极制备、温度敏感样品制备技......
全自动磁控离子溅射仪
被应用于装饰领域,被制成全反射及半透明膜,比如我们常用常换常买的手机壳。产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动放气溅射电流范围大溅射效率高颗粒度小样品表面......
全自动磁控离子溅射仪
在高温超导薄膜、铁电薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池和记忆合金薄膜的研究中发挥着重要作用。产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动放气溅射电流范围......
全自动磁控离子溅射仪
全自动磁控离子溅射仪是物理气相沉积的一种。实现了高速、低温、低损伤。是在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用......
全自动磁控离子溅射仪
全自动磁控离子溅射仪在装饰领域的应用,如各种全反射膜和半透明膜,如手机外壳、鼠标等。产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动放气溅射电流范围大溅射效率高颗粒......
全自动磁控离子溅射仪
全自动磁控离子溅射仪在光学领域:中频闭场非平衡磁控溅射技术也应用于光学薄膜(如减反射膜)、低辐射玻璃和透明导电玻璃。产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动......
全自动磁控离子溅射仪
全自动磁控离子溅射仪被应用于机械加工行业中提高涂层产品的寿命寿命。因为溅射磁控镀膜能够有效提高表面硬度、韧性、耐磨抗损以及耐化学侵蚀、耐高温,从而达到提高产品寿......
GVC-1000小型离子溅射仪用于机械加工行业
在机械加工行业,表面功能膜、超硬膜和自润滑膜的表面沉积技术自诞生以来取得了长足进步,可有效提高表面硬度、复合韧性、耐磨性和高温化学稳定性,从而大大提高涂层产品的......
GVC-1000小型离子溅射仪用于微电子领域
作为一种非热涂层技术,应用于微电子领域。各种功能膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能的膜。例如,在低温下沉积氮化硅增透膜以提高太阳能电池的光电转换效率。......
GVC-1000小型离子溅射仪用于光学领域
GVC-1000小型离子溅射仪在光学领域:中频闭场非平衡磁控溅射技术也应用于光学薄膜(如减反射膜)、低辐射玻璃和透明导电玻璃。产品特点全自动控制,无需调整针阀专......
GVC-1000小型离子溅射仪
产品特点全自动控制,无需调整针阀专利结构,靶材更换非常简单特殊密封结构,玻璃不易损伤专利结构,样品台高度调整方便内置操作向导,无需培训即可熟练操作应用领域本仪器......
GVC-1000小型离子溅射仪用于扫描电镜
磁控溅射是物理气相沉积的一种。实现了高速、低温、低损伤。是在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒......
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