仪器应用演示 1、打开仪器上盖 2、放入样品 3、在软件中点击“开始”按钮,测量完成,显示分析结果 XRF镀层分析仪硬件性能及优势 元素分析范围从硫(S)到铀（U） 同时可以分析几十种以上元素，五层镀层 分析检出限可达2ppm,镀层分析可以分析0.005um厚度样品 分析含量一般为ppm到99.9% 。 镀层厚度一般在50μm以内（每种材料有所不同） 任意多个可选择的分析和识别模型。 相互独立的基体效应校正模型。 多变量非线性回收程序 多次测量重复性可达0.1% 长期工作稳定性可达0.1% 度适应范围为15℃至30℃。 仪器配置 高压电源 0 ~ 50KV 光管管流 0μA ~ 1000μA 数字多道分析器 摄像头 滤光片可选择多种定制切换 美国进口半导体探测器 测试时间可调 10sec ~ 100sec 仪器环境要求 环境温度 15°C ~ 30°C 相对湿度 35% ~ 70% 电源要求 AC 220V±5V, 50/60HZ
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X荧光光谱/XRF（能量色散型X荧光光谱仪）
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