Q300T D Plus –双靶顺序溅射镀膜仪

    Q300T D Plus–双靶顺序溅射镀膜仪，适用150mm直径的试样

       Q300T D Plus适用于两种材料的多层顺序溅射，具有两个独立的溅射头，无需破坏真空即可连续溅射两种金属。该系统是全自动的，用户定义的配方可以控制泵、镀膜顺序、镀膜时间、溅射循环次数和工艺过程中使用的电流等。通过在两个靶之间循环，可以依次溅射来自两种靶材料的厚度不同的膜层。不使用时，镀膜腔室可保持在真空环境下，以防止污染。

主要特点

• 能够实现 5 x ^10-5 mbar 的真空度

• 新的触摸和滑动电容屏

• 用于升级和下载过程日志文件的 USB 端口

• 可以在一台计算机上设置多用户配置文件

• 新软件根据最近的使用情况对每个用户的食谱进行分类

• 16GB内存可存储1000多种配方

• 新型多色LED可视状态指示灯

• 可互换的载物台选项

• 两个溅射头，用于不同材料的大面积沉积

• 小样品的单头选择