Plasma1000 ICP-AES电感耦合等离子体原子发射光谱仪

钢研纳克ICP光谱仪源于钢铁研究总院,35年电感耦合等离子体光谱仪方法开发经验,数十项ICP检测标准的起草单位,ICP光谱仪产品标准GB/T 36244-2018起草单位,重大科学仪器专项《ICP痕量分析仪器的研制》牵头单位,最懂ICP应用的国产ICP光谱仪制造商。央企品牌，上市公司，品质之选！欢迎来电洽谈. 

Plasma 1000 单道扫描ICP光谱分析仪介绍

应用领域

可用于地质、冶金、稀土及磁材料、环境、医药卫生、生物、海洋、石油、化工新型材料、核工业、农业、食品商检、水质等各领域及学科的样品分析。可以快速、准确地检测从微量到常量约70种元素。

售后服务保障

售后服务工程师源于分析测试中心，应用，生产，售后技术力量无可比拟

多年的国际合作经验打造了完善的售后服务体系

自主知识产权产品使仪器的运行成本特别是备件成本大幅降低

技术参数

1.   光路形式：Czerny-Turner型  

2.   光室恒温：(33±0.2)℃       

3.   光栅类型：离子刻蚀全息平面光栅  

4.   分辨率：不大于0.007nm   

5.   刻线密度：3600g/mm            

6.   高频发生器震荡频率：40.68MHz   功率稳定度：0.1%（长期25℃典型值）  

7.   震荡类型：自激式         

8.   进样方式：蠕动泵进样 配有多种雾室（旋流雾室、双筒雾室和耐氢氟酸雾室）

9.   雾化器：同心雾化器

10. 重复性：RSD ≤1.0% 

11. 稳定性：RSD ≤2.0%（2小时）

12. 冷却气：10-20L/min

13. 辅助气：0-1.5 L/min

14. 载气：0.4-1L/min

15. 尺寸：1550mm×759mm×1340mm（长×宽×高）

16. 重量：240公斤

仪器特点

1.   分析流程全自动化控制，实现软件点火、气路智能控制功能；

2.   输出功率自动匹配调谐，功率参数程序设定；       

3.   优良的光学系统，先进的控制系统，保证峰位定位准确，信背比优良；

4.   极小的基体效应；       

5.   测量范围宽，超微量到常量的分析，动态线性范围5—6个数量级；

6.   检出限低，大多数元素的检出限可达ppb级；

7.   良好的测量精度，稳定性相对标准偏差RSD≤1.5%（5ppm），优于国家A级标准（JJG768-2005）；

8.   Rf输出功率的范围750-1500W，输出功率稳定性小于0.1%；

9.   光电倍增管的负高压可在0-1000V范围内独立可调，可根据不同元素的不同谱线单独设置条件，和全谱仪器比较有更好的检出限；

10. 纳克仪器采用高屏蔽和良好接地保证操作者的安全；

11. 高精度的光室恒温系统，保证仪器优良的长短期精度；

12. 多通道蠕动泵进样，保证仪器进样均匀，工作稳定；

13. 使用钹铜弹片和特殊处理的屏蔽玻璃，在吸收紫外线同时使仪器辐射小于2V/m（JJG768-2005规定小于10V/m）。

14. 具有较高的谱线分辨率，能分出Hg313.154和313.183nm双线谱线，能分出铁的四重峰。

15. 人性化的软件设计，操作方便，终身免费升级。功能强大、友好的人机界面分析软件,可在测定过程中，进行数据处理，方法编制和结果分析，是真正的多任务工作软件；该软件数据处理功能强大，提供了多种方法，如内标校正、IECS和QC监测功能等，可获得准确的背景扣除点以消除干扰；对输出数据可直接打印或自动生成Excel格式的结果报告。