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Aridus3 膜去溶雾化系统

tel: 400-6699-117 1000

CETAC光谱部件及外设, Aridus3 膜去溶雾化系统采用低流量、微量雾化器,只需极低量样品就能分析所有元素,同时系统全部采用PFA惰性材料,可......

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技术特点
【技术特点】-- Aridus3 膜去溶雾化系统

仪器简介

美国Teledyne CETAC公司同时为ICP/ICP-MS提供专业、高效的雾化系统,以提高分析灵敏度、减低背景和干扰,或满足某些特定样品的分析需要,提供完美解决方案。

Aridus3 膜去溶雾化系统采用低流量、微量雾化器,只需极低量样品就能分析所有元素,同时系统全部采用PFA惰性材料,可应用于含HF酸的样品,独特的废液反抽技术进一步提高了稳定性。 

  

主要特点
■ 模块化设计,拆装和清洗方便

■ 带盖保护的PFA雾化室,避免静电干扰;

■ 特有膜去溶技术,有效减少溶剂对ICP-MS的干扰,显著降低氧化物和氢化物水平;

■ 大大改善信号的稳定性,即使是有机溶剂(如甲醇);

■ 提高ICP-MS的灵敏度4-10倍以上。




【技术特点对用户带来的好处】-- Aridus3 膜去溶雾化系统


【典型应用举例】-- Aridus3 膜去溶雾化系统


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地址:1049 Camino Dos Rios, Thousand Oaks, CA 91360, USA

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