Nano Indenter G200纳米压痕仪

位移测量方式：电容位移传感器

压头总的位移范围： ≥ 1.5 mm

最大压痕深度： > 500 um

位移分辨率： 0.01 nm

加载模式： 电磁力

最大载荷 (标配)： > 500 mN

载荷分辨率： 50 nN

高载荷选件： 10 N/50 nN

DCM 压痕选件： 10 mN/1 nN

框架刚度： ≥ 5 x 106 N/m

有效使用面积： 100 mm X 100 mm

定位精度： 1 um

定位控制模式： 全自动遥控

总的放大倍率： 250 倍和 1000 倍

物镜镜头： 10 X 和 40 X

提供选项：

Nano Indenter® G200选项可供选择，配合您的新产品，或后续使用。请联系你的销售代表获取更多相关信息。

XP head

XP 压痕头

Nano Indenter G200系统由电磁传感器供电，以确保精确测量。 传感器独特的设计避免了横向位移造成的伪影。 标准XP压痕头配备500mN的负载能力，提供<0.01nm（10pm）位移分辨率和 > 500μm最大压痕深度。

DCM II

动态触点模块II（DCM II）

DCM II触点可将最大负载能力扩展至30mN，并提供完整的70μm行程范围，0.2pm位移分辨率。 尖端触点专门为了快速移除、轻松安装以及各种特定应用而设计。 通过DCM II选项，研究人员不仅可以研究材料表面的初始几纳米的压痕，还可以研究预接触力学。

CSM

连续刚度测量（CSM）

连续刚度测量（CSM）技术与XP和DCM II压痕头兼容，能满足必须考虑动态效应的应用，如应变率和频率。 ProbeMMA™聚合物方法组合与AccuFilm™薄膜方法组合随CSM选项一起提供。 ProbeDMA™聚合物方法组合提供了一种分离负载位移历史的同相和异相组件的方法。 相位分离可以精确确定初始表面接触的位置，并可以连续测量接触刚度随深度或频率的变化，从而无需卸载循环。 AccuFilm™薄膜方法组合测量与基板材料无关的特性。

Express Test

快速测试

Express Test选项是一种创新高速的高精度纳米机械测试方法。 作为R＆D 100奖的获得者，Express Test选项每秒执行一次完整的缩进，这意味着可以在100秒内在100个不同的位置执行100次缩进。 Express Test选项与所有Nano Indenter G200 DCM II和XP压痕头以及所有平台兼容。 多功能，易于使用的快速测试方法是金属，玻璃，陶瓷，结构聚合物，薄膜和低k材料应用的理想选择。 每一种用于薄膜测量的快速测试方法包含了一个薄膜模型，可自动计算基板对测量的影响，从而可快速，准确地测量杨氏模量。

Laser-heated tip and stage

激光加热的探针与平台

Nano Indenter G200系统的激光加热尖端和平台选项使用高功率二极管激光器将尖端和样品加热到相同的温度，同时与标准XP压痕头兼容。优点包括能够在精确控制的温度下或在高动态温度条件下测量各种纳米机械性能。为了确保准确的数据，系统通过使用加热的尖端，并使用激光作为加热源（不是电阻加热），最小化与加热相关的漂移。G200还为用户提供了使用各种气体清洁样品的选项，以避免污染和氧化。

Lateral Force Measurement

横向力测量（LFM）

横向力测量（LFM）选项为划痕测试，磨损测试和MEMS探测提供三维定量分析。此选项可在X和Y方向上测量剪切力。 摩擦学研究将从LFM选项中获益，用于确定临界载荷和刮擦长度上的摩擦系数。

High Load Option

高负载

高负荷选项设计用于标准XP压痕头，可将Nano Indenter G200系统的负载能力扩展至10N，从而实现陶瓷，大块金属和复合材料的完整机械表征。 高负载选项的设计旨在避免在低力时牺牲仪器的负载和位移分辨率，在需要额外的外力时也可无缝地接合测试程序中的对应点。

NanoVision

NanoVision

NanoVision选项具有闭环纳米定位平台，可用于高分辨率3D成像和精确定位。NanoVision允许用户以纳米级精度定位压痕测试位置，并表征复杂材料的各个阶段。NanoVision用户还可以检查残余印模，以量化材料响应现象，如堆积，变形体积和断裂韧性。

Survey Scanning

测量扫描

Survey Scanning选项利用Nano Indenter G200系统的精确，可重复的X / Y运动，提供500μm×500μm的最大扫描尺寸。 NanoVision阶段和Survey Scanning选项可以一起用于纳米压痕测试的精确定位，特别适用于确定样品断裂韧性。

NanoSuite

NanoSuite® 软件版本

所有Nano Indenter G200系统均采用标准NanoSuite Professional软件。 NanoSuite Professional版本允许用户访问预先编写的测试方法，包括符合ISO 14577的方法和从薄膜材料样品中去除基板伪影干扰的方法。 NanoSuite Explorer版本使研究人员能够使用简单的协议编写自己的NanoSuite方法。 借助NanoSuite Professional和NanoSuite Explorer软件提供的模拟模式，用户可以离线编写测试方法，处理和分析数据。