Gatan 精密刻蚀镀膜系统PECS II 685

产品主要技术参数：

离子源
*离子枪两支配有稀土磁铁的潘宁离子枪，高性能无耗材
*抛光角度±10°, 每支离子枪可独立调节
离子束能量100 eV 到 8.0 keV
离子束流密度10 mA/cm2 峰值
离子束直径可用气体流量计或放电电压来调节
样品台
样品大小：zei大直径 32mm， zei大高度 15mm
样品装载： 对于截面样品抛光采用 Ilion™ II zl的样品挡板，二次再加工位置精确。
样品抛光及镀膜功能：兼具有平面抛光、截面抛光及溅射镀膜功能，靶材数：2个
靶材切换：无需破坏真空，可直接切换
样品旋转：1 到 6 rpm 可调
束流调制：角度可调的单束调制或双束调制
真空系统
干泵系统80 L/s 的涡轮分子泵配有两级隔膜泵
压力5 x 10-6 torr 基本压力
8 x 10-5 torr 工作压力
真空规冷阴极型，用于主样品室；固体型，用于前级机械泵
*样品空气锁Whisperlokzl技术，无需破坏主样品室真空即可装卸样品，样品交换时间 < 1 min
用户界面
*10 英寸触摸屏操作简单，且能够完全控制所有参数和配方式操作
*操作界面语言：提供中文、英文等多种选择