专为VUV 测量设计,整个系统处于真空状态,无氧气吸收。具备高度准确性;独一无二的超快测量速度;快速样品室抽真空能力,方便快速更换样品;氮气消耗量少。
产品特点
50KHz 高频PEM 相位调制技术
45 秒内完成充氮气
2 分钟内完成样品室抽真空
8 分钟内完成光谱全谱范围内测量
两种工作模式:氮气清洗结合抽
真空、连续氮气清洗
光谱范围:147nm~850nm;147nm~2100nm
重点应用领域
超薄膜
157nm 光刻新材料
有机材料、高分子材料
高k 材料:HfO2、Al2O3、TiO2、HfxAlyOz
抗反射涂层
半导体和介电材料电子跃迁
MgF2、CaF2、LaF3
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经销商
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