技术特点
【技术特点】-- 超高温高速退火炉
超高温高速退火炉
——在10s 内将15mm×15mm 的试样加热到1800℃
这款桌面式超高温高速退火炉以大功率点聚焦加热以及超高反射效率可以在10s内将15mm×15mm的试样加热到1800℃，对SiC以及其它高熔点材料进行退火处理。
型号：HT-RTA59HD
应用
◆ SiC氧化膜的生成和激活； ◆ 半导体开发与研究； ◆ 玻璃基板、陶瓷、复合材料等的热处理 | ◆ 作为热处理炉对高熔点材料进行热处理； ◆ 陶瓷材料的热冲击测试。 |
特点
◆ 可以在10s内加热到超高温1800℃； | ◆ 紧凑的桌面型设计； |
设备参数
温度范围 | 室温-1800℃ |
样品尺寸 | W15mm×L15mm×T1mm |
样品支架 | 氧化铝或者高纯碳 |
加热氛围 | 多种 |
热电偶 | JIS B φ0.3 （W-Re可选） |
设备结构以及样品支架
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【技术特点对用户带来的好处】-- 超高温高速退火炉
【典型应用举例】-- 超高温高速退火炉
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