技术特点
【技术特点】-- SionTM 射频放弧探测器
特征概览:
非接触式超小设计,监测高功率射频电源的电流及电压传输
方便替换传统的光谱仪,准确探测刻蚀工艺的终点
监测腔体是否刻蚀干净及过度刻蚀,缩短刻蚀时间和降低气体成本,提高生产机台使用率
高速采样频率,可达2万赫兹
应用:
用于半导体,平板显示器及太阳能等行业PVD,CVD及刻蚀腔体工艺等离子体放弧探测及刻蚀终点探测(Endpoint)。
【技术特点对用户带来的好处】-- SionTM 射频放弧探测器
【典型应用举例】-- SionTM 射频放弧探测器
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