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IonEtch Sputter Gun溅射离子枪,等离子体发生源

tel: 400-6699-117 1000

特科特拉半导体专用检测仪器设备, 溅射离子枪主要用途:溅射清洗/表面科学中样品表面处理, MBE and HV 溅射过程;离子辅助沉积;离子束溅射镀膜;反......

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技术指标:

离子能量25eV - 5keV
总的离子束电流1mA (at 5kV with Argon)
High Current Version: up to 4mA (at 5kV with Argon)
电流密度120μA/cm2 at 100mm working distance
离子束发散角Ion energy dependant (typically 15°)
工作距离100 mm (typically)
等离子体杯Alumina (superior than other dielectric materials due to highest yield of secondary electrons)
气体进气口径CF-16 (1.33“OD)
气体流速1 - 5 sccm (1,5 sccm typical, gas dependant)
工作真空度10-6mbar - 10-3mbar (1x10-5mbar typical in chamber with 300l/s pimp). Low 10-6 mbar range possible - beam current then 140μA max.
激发模式微波放电等离子体 (无灯丝)
安装口径CF-35 (2.75“OD)
枪直径34mm (真空端)
泄露阀需要气体质量流量计



厂家资料

地址:北京市朝阳区东亚望京中心B座3115室

电话:400-6699-117 转 1000

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