三、匀胶显影机主要性能指标：    
1、腔体尺寸：12.5英寸 (318 毫米)；
2、Wafer&芯片：直径8英寸（200毫米）的晶圆片或者7x7英寸（175毫米）的方片；
3、非真空托盘：聚丙烯材质非真空托盘，可承载2、3英寸及200毫米的晶圆片-并带有背面清洗功能；
3、转动速度：0-12,000rpm， 
5、马达旋涂转速：稳定性能误差 < ±1%；
6、工艺时间设定：1-5999.9 sec/step 0.1 精度；
7、高精度数码控制器：PLC控制，设置点精度小于0.006%；
8、程序控制：可存储20个程序段，每个程序段可以设置51步不同的速度状态；
9、分辨率：分辨率小于0.5转/分，可重复性小于±0.5转/分，美国国家标准技术研究院（NIST）认证过的，并且无需再校准！]
10、腔体开关盖板：透明ECTFE材质圆顶盖板，便于实时进行可视化操作；
11、腔体材质说明：用聚丙烯材质制成的带有联动传感触点的合瓣式舱体；
12、配套分析软件：SPIN3000操作分析软件；
13、配套真空泵系统：无油型 220~240伏交流，50/60赫兹；

四、适用工艺（包括但不限于下述湿法制程）
光刻胶显影（KrF/ArF）
SU8厚胶显影
显影后清洗
PostCMP清洗
光罩去胶清洗
光刻胶去除
金属Lift-off处理
刻蚀微刻蚀处理