技术特点
【技术特点】-- Si/SiO2/Ta/Cu薄膜
产品名称: | Si/SiO2/Ta/Cu薄膜?(进口?Cu?Epi?Film?Coated?on?Ta/SiO2/Si?Wafer) |
技术参数: | Cu<111>参数:100nm400nm(highly?oriented?poly-crystalline?Cu) Ta厚度:20-50nm (Ta diffusion barrier) Si/SiO2参数:<100> P型掺B;300nmSiO2;R:1-20ohm-cm;单抛Si/SiO2尺寸:dia 4inch x 0.525mm 表面粗糙度:As grown
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产品尺寸: | dia4 inch or 10x10mm
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标准包装: | 1000级超净室100级超净袋真空包装或单片盒 |
【技术特点对用户带来的好处】-- Si/SiO2/Ta/Cu薄膜
【典型应用举例】-- Si/SiO2/Ta/Cu薄膜
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