技术特点
【技术特点】-- 紫外曝光机
这款紫外曝光机非常适合对紫外光敏感层的处理,是理想的紫外掩曝光机系统。
应用:紫外曝光机适合光学,生物,微纳科技,光刻等领域需要1-2掩膜的应用。
紫外掩曝光机特点
1)完美的单色曝光,曝光带宽小于10nm;
2)冷紫外曝光,衬底环境温度实时控制,从而实现均匀曝光,消除热效应;
3)超强的功率密度
4) 紫外LED寿命更长,高达10000小时;
5)方便用户使用的触摸屏配置;
6) 不需要预热;
7)计算机控制紫外光源强度调节;
8)自动晶圆装载和卸载功能;
9)超低能耗;
【技术特点对用户带来的好处】-- 紫外曝光机
【典型应用举例】-- 紫外曝光机
请扫描二维码查看详细参数
经销商
除厂家/中国总经销商外,我们找不到 紫外曝光机 的一般经销商信息,有可能该产品在中国没有其它经销商。
如果您是,请告诉我们,我们的邮件地址是:sales@antpedia.net 请说明: 1.产品名称 2.公司介绍 3.联系方式 |