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RMC电镜制样设备, 应用于透射电镜样品的电解减薄,其强大的双喷技术能够在数分钟内同时抛光样品两面,产生适于电子穿透的薄区.光探头控制灵敏,使得在穿孔的当时停止减薄过程,避免继续减薄损伤薄区.电流电压由自动控制电源连续控制.
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