技术参数

1、主溅射室尺寸：?560×355mm梨形真空室

2、主溅射室真空度：5×10-6Pa

3、进样室尺寸: ?255×430mm

4、进样室真空度：5×10-4Pa

5、永磁靶5套，靶材尺寸φ2″，各靶射频与直流溅射兼容（其中1个靶可溅射铁磁材料）

6、公转样品台6个工位，5个水冷工位，1个加热工位，加热工位最高温度 600℃±1℃

7、样品尺寸：φ1″，可放置6片

8、基片可加-200V负偏压

9、进样室可一次性安装6片样品，可对被镀样品进行退火处理，退火温度 800℃±1℃

10、进样室可对基片进行反溅清洗

11、进样室和主溅射室之间通过磁力样品机构进行样品传递