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沈阳科晶其他, 1600℃双温区高温真空管式炉GSL-1600X-Ⅱ每个加热区域长300mm,由30段智能温度调节仪进行控温,采用硅钼棒加热元件温度可达1600℃,采用硅碳棒加热元件温度可达1400℃,通过调节两个温区的控温程序使炉管内温度场形成一温度梯度。本机可用于CVD或PVD方法来生长纳米材料和制作各种薄膜。
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