快速热化学气相沉积系统(RTCVD)
tel: 400-6699-117 转 1000Ecopia半导体专用检测仪器设备, RTCVD快速热化学气相沉积设备广泛用于多晶硅、氧化硅、氮化硅等常见半导体薄膜的沉积和制备。
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产品型号:RTCVD
品牌:Ecopia
产品产地:韩国
产品类型:进口
原制造商:Ecopia
状态:在售
厂商指导价格:未提供
上市时间: 2015-03-08
英文名称:RTCVD
优点:RTCVD快速热化学气相沉积设备广泛用于多晶硅、氧化硅、氮化硅等常见半导体薄膜的沉积和制备。
参考成交价格: 5~10万元[人民币]
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