技术特点
【技术特点】-- Allied精密研磨抛光机 MultiPrep™
新升级的美国ALLIED MultiPrep高精密研磨系统,采用7寸LCD触摸屏完成所有操作,研磨系统精度能够达到1um,适用于高精密(金相,SEM,TEM,AFM等)样品的前处理
MultiPrep™系统适用于高精密(金相,SEM,TEM,AFM等)样品的半自动准备加工。主要性能包括平行抛光,精确角度抛光,定点抛光或几种方式结合抛光;它解决了操作者之间的不一致性,提供可重复的结果,而不管他们的技能如何; MultiPrep 无须手持样品,保证只有样品面与研磨剂接触。
双测微计(倾斜度和摆动度)允许相对于研磨盘进行精确的样品倾斜度调整;精密的Z-轴指示器保证在整个研磨/抛光过程中维持预定义的几何方向。
数字指示器可以量化材料的去除率,可以实时监测或进行预先设定的无人操作。可变速的旋转和振荡,能够最大限度地提高整个研磨/抛光盘的使用和减少手工制样。可调负荷控制,扩大了其从小样品(易碎样品)到大样品的全方位处理能力。
常见的应用包括并联电路层级,横截面,楔角抛光等
特征
MultiPrep定位头特点:
前数字指示器显示实时的材料去除率(样品的行程), 1微米分辨率 | 精确主轴设计保证样品垂直于研磨盘,使之同时旋转 |
双轴测微计控制样品角坐标设置(斜度和摆度),+10°/-2.5°幅度, 0.02° 增量。 | 后置的数字指示器显示垂直位置(静态),具有归零功能,1微米分辨率 |
6倍速样品自动摆动 | 齿轮传动主轴应用于要求较高的转动力矩,如较大或封装的样品 |
凸轮锁紧钳无需其他辅助工具,方便用户重新设置工作夹具 | 8倍速样品自动旋转 |
样品调整范围:0-600克(100克增量) | 美国ALLIED设计制造 |
研磨/抛光机特点:
研磨盘速度范围:5-350 RPM(5转速增量) | 数字计时器和转速表 |
7“LCD触摸屏,带键盘输入控制所有功能 | 顺时针/逆时针研磨盘旋转 |
可选的AD-5 ™自动操作流体分配器 | 调节阀电子控制冷却液 |
0.5 HP(375 W),高扭矩马达 | 稳定的RIM,铝和不锈钢结构 |
腐蚀/耐冲击盖 | 一年保修 |
符合欧盟CE标准 | 由美国Allied设计制造 |
【技术特点对用户带来的好处】-- Allied精密研磨抛光机 MultiPrep™
【典型应用举例】-- Allied精密研磨抛光机 MultiPrep™
经销商
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