ETD-650M magnetron sputtering instrument
It is an economical and practical pocket magnetron sputtering equipment developed by our company, which is more suitable for the needs of laboratories in various scientific research and educational institutions. The system is mainly composed of sputtering vacuum chamber, permanent magnet magnetron sputtering target (strong / weak magnetic target), fiber optic rotary table (custom), DC power supply, working gas circuit, pumping system, circulating water system, film thickness monitoring system, vacuum measurement, electronic control system and installation machine and so on.
溅射气体 | 溅射靶材 | 溅射电流 | 极限真空 | 样品仓尺寸 | 样品台尺寸 | 工作电压 |
根据实验目的可添加氩气,氮气等多种气体。 | 配有直径50mm弱磁靶和直径60的强磁靶。 标配靶材为金靶,可配银靶,铜靶,铬靶等多种靶材 | 电流 为0-500mA | 优于5*10-4Pa | 直径180mm,高200mm | 样品台光纤旋台(可定制) | 230V, 50HZ |
电子束敏感的样品 | 非导电的样品 | 新材料 |
主要包括生物样品,塑料样品等。S EM中的电子束具有较高能量,在与样品的相互作用过程中,它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料,那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下,用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用,防止此类损伤; | 由于样品不导电,其表面带有“电子陷阱”,这种表面上的电子积累被称为“充电”。为了消除荷电效应,可在样品表面镀一层金属导电层,镀层作为一个导电通道,将充电电子从材料表面转移走,消除荷电效应。在扫描电镜成像时,溅射材料增加信噪比,从而获得更好的成像质量。 | 非导电材料实验电极制作观察导电特性 |
离子溅射仪
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