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基本参数

1、750mm焦距光栅设计，帕型-龙格装置，高真空，分辨率高、灵敏度高等特点；由于机刻光栅可以产生较高级次的光谱，所以选线更具灵活性，从而避免光谱干扰。

2、仪器结构设计合理，电子系统采用国际标准机笼，高集成化电路设计，故障率低。

3、分析速度快、重复性好、稳定性好。

4、采用高稳定的数字光源，激发频率在100—1000Hz之间变化，分析不同的样品，可选择不同的激发参数，可达到最佳的分析效果。

5、采用高集成化的采集和控制系统，自动化程度高。

6、采用进口的光电倍增管，具有暗电流小、信噪比高、使用寿命长等特点。。

7、分析扫描过程可同时对所有元素进行扫描，扫描过程简单，可快速分析出每个元素相对于基体元素的偏差。

8、激发样品过程中，无需对激发台进行水冷却，可连续分析样品也能达到较好的数据。

9、测控系统采用单板机测量与控制，与上位计算机进行数据交换，提高了运行速度。

10、通过计算机软件来调整每个通道的光电倍增管负高压，通道负高压分8档调整，从而大大地提高通道的利用率和分析谱线的最佳线性范围在分析不同材质中的采用，减少了通道的采用数量，降低了成本。

11、可用于多种基体分析：Fe、Co、Cu、Ni、Al、Pb、Mg、Zn、Sn等。

12、采用纯中文Windows系统下的操作软件，操作简单易懂。

13、计算机软件建有数据库系统，方便了测量数据的查询与打印，也可通过网络远程传输数据，方便快捷。

14、各项系统独立供电，组成单元，使用方便，维护简单。

15、采用光学部分恒温措施，保证了仪器的正常运行，从而降低了对环境的要求。

16、采用高精度直线电机进行入缝扫描，速度快，精确度高。

17、采用整体出射狭缝，方面增加通道。

1、激发光源：

⑴供电电压：50Hz、220V±1%

⑵输入功率：1.0KVA

⑶充电电容：预燃7.5μF，曝光1.5μF

⑷峰值电流：预燃120A，曝光30A

⑸主回路峰压：300VDC(采用自动调整峰压)

⑹引燃电路：脉冲幅度：+15KV
 辅助间隙：采用隧道二极管

 放电频率：数字光源100Hz--1000Hz

2、激发台

⑴样品台分析间隙：4mm

⑵充氩气样品架，无需水冷却

⑶分析时间间隔：一般不到1分钟

3、分光仪

⑴分析波段范围：160~650nm

⑵光栅：曲率半径  750mm
刻划密度：2400线/mm
刻划面积：30×50mm2
闪耀波长（一级）：300nm
线色散：0.55nm/mm

⑶入射狭缝宽度：20μm

⑷出射狭缝宽度：50μm、75μm

⑸光电倍增管：直径28mm,10级侧窗管，熔融石英或玻璃外壳

⑹允许最多通道：24个（可扩张到48个通道）

⑺分光仪局部恒温：38℃±0.2℃

4、测控系统

⑴测控系统：采用单板机测量和控制，与上位计算机进行数据交换

⑵测量方式：分段积分

积分电容容量：0.047μF

重现性：RSD≤0.2%

⑶光电倍增管高压电源：
电压：-1000V
稳定度：8小时优于0.5%

高压调节：从-550V到-1000V变化，分8（0-7）档调整

高压设置：用户通过计算机软件改变

5、外形尺寸：

⑴主机：长1120mm×宽750mm×高920mm

⑵重量：净重约266Kg