高密度光存储技术实验室
400-6699-117转1000
1.可录光盘染料专用高速旋涂系统
STEAG-Hamatech公司制造，该旋涂机的关键部件和生产线上的完全一样，这保证了实验室工艺与生产线工艺最大限度的兼容。该旋涂机最高转速达每分钟10000转，加速度高达每分钟6000转/0.1秒，转速控制误差在0.5%以下。制备盘片全部由微机控制，机械手执行，用于高密度和超高密度可录光盘的研究和开发。
用于高密度可录光盘制备的高速旋涂系统
2. SQ1D光盘专用多层介质膜高速控制设备
a: 整机 b: 自动送片部分 c: 反射膜控制部分 d: 保护膜或粘合膜控制部分
SQ1D光盘专用多层介质膜高速控制设备是国际著名的光盘设备制造商M2公司根据我们的要求提供的一台适合于实验室使用的离线设备，M2公司对原来设备进行了部分改装，使其具有自动取片的功能。
设备包含以下单元
（1）自动送片机械手
（2）与注塑机机之界面手臂
（3）盘片翻面手臂
（4）金属溅镀机
（5）保护胶旋涂机/粘合机
（6）Dr. Schenk 线上检测单元
（7）光盘承接机
（8）正压空气洁净室
设备功能
制备CD可录光盘反射膜及保护膜的周期为3.5秒钟，合格率97%。
制备DVD可录光盘反射膜及粘合膜的周期为9秒钟，合格率95%。
3.多种型号多靶磁控溅射设备
可供溅射的有GeTeSb靶、AgInSbTe靶、ZnS-SiO2靶、Si靶、Al靶、Sb靶、Ag靶、Ti靶等多种靶材。可以进行高密度、超高密度相变、磁光光存储薄膜和光盘的制备，其它光电子功能薄膜材料的制备。
4.相变光盘初始化仪
日本日立公司制造，功率范围0~1800 mW，转速为0~12 m/s，最大步进范围192 μm。使用的模式为等线速度（CLV）。可用于CD-RW和DVD-RW的初始化。
5.母盘制作和测试系统（光盘工程中心）
国际一流及国内最先进的光盘母盘制作和测试系统（SONY SLIM-DHD）, 该系统也是中国大陆第一台双光束光盘母盘刻录系统，具有极高旋转精度的刻录机、独特工艺的无电化学沉积、超净空间中的自动化工艺流程和完整的测试设备，可用来制作各种类型的只读、可记录和可重写CD/DVD光盘母盘。
6.光盘盘基测试系统
主要测量盘基表面缺陷（最小缺陷0.3微米）、盘基表面粗糙度（纵向分辨率2nm）、盘基槽宽和槽深均匀性（取样光斑大小小于200微米）等，通过调整也可用于一般材料表面的分析。
7.光存储材料动态测试系统
主要测量磁光可擦重写介质、直接重写相变介质和一次记录介质的动态光存储性能，光源波长632.8nm或514.5nm（488nm），信号频率100KHz-3.7MHz，CNR范围0-60dB。
8.光存储材料静态测试系统
主要测量磁光可擦重写介质、直接重写相变介质和一次记录介质的动态光存储性能，光源波长632.8nm或514.5nm（488nm），数值孔径0.6或0.85或1.5（SIL透镜），脉宽50ns-5ms，记录功率1-30mW。
9.超分辨光盘测试系统
主要测量超分辨光盘的动态读出性能。光源波长650nm，信号频率1-14MHz，转速500-3600rpm。
10.CD-R和CD-RW光盘测试系统
主要测试包括WOBBLE幅度、CNR、ATIP误码分布和最大连续出错数等。工作波长780nm，信号频率100KHz-5MHz。
11.三维全息光存储材料测试系统
主要测试光全息存储光盘材料的灵敏度、均匀性、光栅频率、衍射效率、光强效应、误码率等。
12.DVD-R光盘测试仪
日本EXPERT公司进口，可以测试DVD-R光盘记录前后的所有标准参数。
13.波长扫描和入射角可变全自动椭圆偏振光谱仪
主要测试薄膜等固体材料的光学、介电常数（n，k，e1、e2，a）和膜厚等，扫描波段250-830nm。
14.小光斑测试仪
通过光纤扫描精确测试小光斑的近场和远场光强空间分布。
15.蓝光激光静态测试装置
