集成光电子学国家重点实验室
400-6699-117转1000
实验室的主要研究内容是：重点研究基于半导体光电子材料（GaAs、InP基、GaN基、硅基）、有机光电子材料、光电功能新材料（二维半导体以及蓝宝石、金刚石、石英等光学材料）、微纳光子材料（表面等离激元、光子晶体、光纤光栅等）的新型光电子与光子结构、器件以及集成芯片；研究与上述材料兼容的微纳集成器件制备新工艺；研究上述器件及芯片在光纤通信系统与网络、信息处理和显示中的应用技术。这些研究构成了一个链式整体结构，即以应用为牵引、以集成器件和芯片为目标、以器件物理与材料特性的深入研究为基础的创新研究模式。相应的主要研究方向为：
①高速及特殊应用光电子集成器件；
②硅基光子学及光子器件集成；
③光电器件物理及微纳集成新工艺；
④微纳光电子与光电集成芯片；
⑤光电集成新材料和新器件。
