利用双压线性离子阱质谱仪多重解离技术对API杂...（二）
II.Trap-HCD/CID MS 2 和 MS 3 为未知化合物的结构解析
提供丰富的碎片信息进一步的结构信息通过结合母化合物列表、使用
Trap-HCD和 CID 解离组合进行 MS 3 实验获得。当归一化的碰撞能量水平相同时，Trap-HCD 比 CID
生成的碎片谱图信息更丰富。Trap-HCD 没有低质量数歧视效应，见图 4。CID MS n 能够提供步进的裂解信息，对结构解析非常有价值，见图
5，6。
- 全扫,CID dd MS2 （设定母离子列表），然后对前三的MS2 碎片离子进行 HCD MS3
- 全扫,CID dd MS2 （设定母离子列表），然后对前三的MS2 碎片离子进行 CID MS3
- 全扫,HCD dd MS2 （设定母离子列表），然后对前三的MS2 碎片离子进行 CID MS3
- 全扫,HCD dd MS2 （设定母离子列表），然后对前三的MS2 碎片离子进行 HCD MS3
根据丰富的 HCD、CID MS 2 和 MS 3 碎片信息（见图 7），对鉴定出的杂质化合物进行了结构预测。每个杂质组分的精确质量数和元素组成通过台式 Orbitrap Q Exactive TM 质谱仪的高分辨数据确认。
结论
两种解离技术—Trap-HCD 和
CID—被用来表征市售研究级阿德福韦酯（adefovir
dipivoxil）样品中的十三种低含量杂质。当归一化的碰撞能量水平相同时，Trap-HCD 比 CID
生成的碎片谱图信息更丰富。Trap-HCD 不存在低质量歧视效应。另一方面，CID 能够提供逐级裂解信息和 MSn
谱图，对于阐明子结构关联非常有价值。本研究的结果证明，结合数据后处理软件使用这两种互补的解离方式能够出色完成杂质鉴定与结构解析，提高了未知杂质分析的速度与可靠性。
