鉴于去年成功举办研讨的经验,牛津仪器公司等离子部将再次联合重点研究所和大学各地举办研讨会。会议发言者有牛津仪器等离子工艺技术专家,还有大量来自主办大学、研究机构和工业的学者,他们将阐述各自深入研究的课题。

  2011年3月11日至12日- 纳米技术:生长、沉积和刻蚀

  2011年6月30日- 创造知识的合作关系 -资金转变为成果

  2011年7月14日至15日 - 等离子纳米先进技术

  由美国加州的劳伦斯伯克利国家实验室的纳米科学研究中心主办

  会议议程已制定完成,如需获取更多的信息可以发邮件至plasma@oxinst.com

  在半导体,光电,微机电系统和微流体,高质光学镀膜及微纳米技术和许多其他应用方面,牛津仪器的生长、沉积和刻蚀设备能够提供材料的纳米工程的解决方案。