半导体用水设备的处理系统及工艺流程
半导体用水是一种介于导体和绝缘体之间的材料，在半导体加工过程中需要使用水进行处理，该水质的要求比较高，不能含有任何离子杂质。半导体行业用超纯水设备采用先进的制水技术，有效去除水中杂质，保证设备的出水水质。
半导体用水主要用于高技术的工业生产过程，尤其是半导体这种要求较高的技术行业，对水质要求非常严格。半导体用水中K+、Na+、Cu2+、Zn2+、Fe2+、Cr6+、Mn2+等金属离子含量都要在ppb级以下，总硅小于3ppb，TOC小于50ppb，电阻率在18MΩ·cm以上，水质中及其微量的杂质原子都会对产品造成极大的影响。
半导体用水制备之预处理系统：一般水源水都难以满足超纯水的要求，在超纯水的和制备过程中，预处理是非常必要的。絮凝沉淀、氧化、吸附是常用的预处理工艺流程。原水中加入絮凝剂或采用电解絮凝方式，可以去除悬浮物、胶体和少部分有机物。氧化主要是去除易生物降解的有机物和氨氮。吸附同样去除水中的悬浮物和胶体。
半导体用水工艺：
1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象
2、预处理-一级反渗透-加药机-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5 μ m精密过滤器-用水对象
3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5 μ m精密过滤器-用水对象
4、 预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-0.2或0.5 μ m精密过滤器-用水对象
半导体用水设备特点：
1、进口零部件组装，更加耐用。
2、可以随时增加膜的数量以增加处理量。
3、自我保护系统，故障急停。
4、复合膜拥有更高的分离率和透过率。
5、水利用高，能产生更多的可饮用水。
6、体积更小，使用工地面积小。
7、淡水即可冲洗符合膜。
8、部件更加耐用，长期无需维修。
9、电子半导体用水设备设计有膜清洗系统用阻垢系统。
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