在高产量的等离子设备产品市场上,牛津仪器等离子技术作为世界领先级的供应商已超过15年的历史，拥有广泛的HBLED生产系统的安装基础。随着行业的不断发展，我们有技术和专业知识，提供最先进的解决方案给我们的客户。"
该等离子体处理系统 系统是专为二氧化硅和氮化硅层的沉积，并采用了大面积电极和优化喷头设计，可允许多达61 x 2", 15 x 4"或7 x 6"单一负载。该等离子体蚀刻系统，为氮化镓，磷化铝镓铟和蓝宝石蚀刻设计，提供了批量达55 x 2", 13 x 4" 或5 x 6",产生产量领先的晶片。
优秀的大面积均匀性提供了新推出的60MHz ViperTM等离子体源。这种创新的源等离子体的密度达到相当的ICP来源，保持高蚀刻率和低损伤的好处。
以我们在最小的规模内分析和处理问题的能力, 这一最新系统的开发进一步证明了牛津仪器公司的目标是成为工业和研究市场新一代工具和系统的领先供应商