实验室用快速退火炉可提供准确和可重复的热控制
实验室用快速退火炉基于SolarisGUI的PID处理控制器，可以存储程序，每个程序多可以支持100个设置步骤，并带有USB2.0接口。包含与MicrosoftWindows操作系统兼容的SolarisGUI软件。使用此软件，可以通过链接到计算机轻松地实现程序编辑和数据记录。
实验室用快速退火炉可以满足大学，研究实验室和小规模生产的需求，它是高度可靠且具有成本效益的。处理腔室采用壳状设计，可以完全进入底板，便于基板的装卸，并可以对腔体进行实际清洁。快速的数字PID温度控制器可在整个温度范围内提供准确且可重复的热控制。
1、处理室：使用不锈钢冷室壁技术。
2、温度范围的标准配置：高1250°C。
3、高温配置：高1450°C。
4、温度控制标准配置：使用热电偶和高温计测量温度。
5、真空和气体：使用MFC多可处理5种处理气体和一种清洁气体。
6、计算机控制：完全PC计算机控制，每个公式100步，完整的数据记录和处理历史人机界面设计。
实验室用快速退火炉快速热处理技术（RTP）可用于硅和化合物半导体材料的离子注入，消除/激活杂质，硅化物形成，欧姆/肖特基接触制备以及快速氧化/氮化的缺陷消除，消除膜应力，改善漆膜附着力等方面。该设备具有良好的长期工作稳定性，快速的温度上升和下降以及缓慢的温度上升和下降功能，因此还可以用于PVD/CVD工艺中各种半导体材料的热处理。
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