市场上有些公司已经采用，比如有一种是把离子淌度装置放在碰撞室中，这时很多质谱扫描的方式就不能用了，并且这类仪器只能用离子淌度，增加的作用只限于分 离某些同分异构体。而AB SCIEX的SelexION装置，离子淌度放在了离子源之后，Q0之前，即产生的离子通过淌度分离后，还可以在后面的任意一级质谱进行原来的各种质谱采 集和扫描方式，具有更高的适用价值，它最后的淌度表示横轴是CV(V）（可以区分开同分异构体）。另外，由于离子淌度装置安装在离子源后，任何用户可以无 需工具、不停真空、2分钟内拆装，所以用户可以方便地选择：用还是不用离子淌度。在离子源后的这种离子淌度，除了分离同分异构体，还可以降低背景噪音，提高复杂基质中分析物的灵敏度。

　　 还有一类市场上已经采用的，也是放在离子源后，但它是一种同心环，这种方法做MRM的速度不高，另外拆装也不是很方便。而SelexION装置是一个几毫 米的平板，在两块平板（10×30mm，1mm间隔）上加RF电压在平板间形成电场，它进行MRM的速度更快（比环形提高4倍），可以更好地进行多混合物 分析和兼容于UHPLC的速度。此外，SelexION装置非常棒的特点是，它集成了添加化学修饰剂（如异丙醇、甲醇、乙腈等）的功能，可以把离子淌度的 分离能力提高10倍，因为化学修饰剂和样品离子结合，具有动态的成簇（高电场时）/去簇（低电场时）模型，进一步加大了分子之间的差异（如尺寸上的差 异）。