薄膜外全反射角X射线能谱分析研究
电子探针微区分析(EPMA，XRMA)由于X射线激发深度较大而对薄层分析产生困难，无法准确确定分析结果是样品表面的成分还是样品体相的成分。本工作首先从理论上探讨了薄膜产生全反射的的条件，然后在通常的x射线微区分析设备上，采用外全反射角X射线能谱微分析方法，通过对硅衬底上不同膜厚的铝膜和铜膜的测定，探索出一种区分膜成分和体相成分的新方法。 本论文共四章，其主要内容如下： 第一章：绪论。对X射线微区分析的原理和近年来薄层分析的研究现状进行了简要回顾。 第二章：首先从理论上探讨了X射线发生全反射的条件，然后利用现有的X射线微区分析设备对硅衬底上不同膜厚的铝膜和铜膜进行了研究测定，探索出发生外全反射的条件和区分膜成分和体相成分的方法。 第三章：对在不同低出射角条件下所获得的X射线能谱不同线系的X射线相对强度进行了研究。得出了在不同出射角采集的X射线谱中各线系强度间比值变化和引起这种变化的原因，这就为外全反射X能谱薄层分析中的定量分析提供了一定的依据。 第四章：利用外全反射X射线微区分析这一新方法应用于测定实品。对无机锶掺杂钛酸钡陶瓷介电材料的体相和表面进行了研究，结果表明：与常规的方法相比，该法有较高的表面灵敏度，可很好地解决薄层分析的困难。具有很广泛的实用价值
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