详细分析掩模对准曝光机的试验检查方法
掩模对准曝光机的试验方法：
1、环境条件检查：
a、温度、相对湿度检查：试验期间，用精度不低于1级的干湿球湿度计每4h测试一次环境的温度，相对湿度。千湿球湿度计应置放在与工作台高度一致，没有气流的地方；
b、洁净度检查：试验期间，每4h测试一次洁净度。选用测试精度能满足相应洁净度等级的光学粒子计数器检测有效工作区域的洁净度；
c、地面振动检查：试验期间，测试一次地面振动幅度，振动分析仪的拾振装置应置放于工作台机座附近。
2、外观检查：
a、用目视法进行外观质量检查；
b、用手感方法检查移动机构的空位及运动情况。
3、安全检查：
a、用自动击穿装置在500V直流电压下，测量初级线路与机壳之间的绝缘电阻；
b、用自动击穿装置在1500V，50Hz交流电压下，测量漏电流值。试压1min，观察有无击穿和故电现象；
c、用目视法检查接地标志。
4、显微镜检查：
a、调节显微镜的目镜、物镜，用手感及目视法检查目镜、物镜中心距调节性能、光轴平行性，左右视场的齐焦程度以及左右显微镜倍率的一致性；
调节显微镜视场亮度，用目视法检查视场的亮度变化及清晰度；
b、调节显微镜，选择相应分辨率版，通过能识别的线宽，检查显微镜的分辨能力是否满足曝光机标称分辨率的需要；
c、调节显微镜物镜与基片相对位置，用1级千分表测量能识别相应线宽的调节范围。此调节范围即为显徼镜焦深。
5、瞟光系统检查：
a、调节曝光灯X，Y、Z方向位置，并检查启辉性能；
b、开启噪光灯10min后，选用精度不低于0.33mW/c㎡，测试波长为365nm，404.7nm的紫外照度计检浏光强不均匀性；
c、开启瞟光灯，检查曝光灯是否能连续工作16h；
d、开启曝光灯2h后，用半导体点测温度计测量灯室外表温升。
6、曝光量控制检查：
a、光源处于热稳定状态后，连续开启、关闭快门40次，检查快门动作。关闭快门，将涂有500nm正性光致抗蚀剂的基片置于加有简单图形的掩模版及曝光头下2min，而后显影，检查快门是否有漏光现象；
b、将定时系统曝光时间分别设置在6.3，10，16，25，40，63，80，99.9s档次上，在每设定时间下，用测速仪实测三次；
c、光源达到热稳定状态后，置曝光量档次为6.3，10，16，25，40，63，80，99.9s。在各设定档次下，实测三次光强和瞟光时间；
d、用照度计测量掩模版中心光强值，每1h测一次，实测五次。
7、微动台检查：
a、用1级游标卡尺检测扫描部件的调节范围，用1级千分表检测板架相对于显徼镜移动时的表面跳动量；
b、用1级游标卡尺检测承片台与掩模版的X、Y向相对调节范围；用1级千分表检测其微调小步距；
c、用精度等级不低于1’的量角器检测平面转动部件的粗调及微调范围；
d、用1级游标卡尺和1级千分表检测承片台垂直升降粗调及徼调范围。用千分表检浏接近式曝光的微调小步距。
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