ICP-MS测定硅
了解三重四极杆 ICP-MS 在高纯材料和新兴分析中的应用 —— 技术解读 8900 ICP-MS/MS
来自 Agilent ICP-MS 工厂的 Ed McCurdy 和 Naoki Sugiyama 继续为您解读 Agilent 8900 ICP-MS/MS。
准确分析 二氧化硅 (SiO2) 纳米粒子 (NP)的新兴应用展示出 Agilent 8900 ICP-MS/MS 强大的新功能。在环境领域、食品安全和 NP 对人类健康的影响中， NP 的表征非常重要。NP 还广泛用于工业生产过程、制成品和消费品中。
为了表征 NP，一种方法就是当 NP 通过 ICP 并被原子化和离子化后，测定每个单独 NP 的信号。这要求仪器具有非常快速的检测器响应，而 Agilent 8900 ICP-MS/MS 使用一种新型的检测器，具有快速 TRA 功能，可以使用 0.1 ms 的驻留时间。配合使用纳米粒子专用软件，可对 NP 信号进行处理，表征 NP 粒径大小和分布。
二氧化硅 NP 采用 ICP-MS 分析时存在一个特殊问题，因为 Si 的主要同位素质量数 28 会受到 N2 和 CO 的多原子离子干扰。 Agilent 8900 使用 MS/MS 模式， H2 反应池气体来去除 N2 和 CO的干扰，可实现低浓度 Si 的准确测定。这确保了小粒径（50nm 或更小）的信号能够与背景区分开，实现了 SiO2 NP 分析无与伦比的准确度，如图 1所示。
图 1. A：时间分辨谱图（原始数据）；B：信号分布，以及 C：粒径分布， 50nm SiO2 纳米粒子 (40 ng/L)
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