NS-EN 15991:2011
陶瓷和基础材料的测试 通过电感耦合等离子体发射光谱法（ICP OES）和电热汽化（ETV）直接测定碳化硅粉末和颗粒中杂质的质量分数

Testing of ceramic and basic materials — Direct determination of mass fractions of impurities in powders and granules of silicon carbide by inductively coupled plasma optical emission spectrometry (ICP OES) with electrothermal vaporisation (ETV)

被代替

标准号

NS-EN 15991:2011

发布

2011年

发布单位

SCC

替代标准

NS-EN 15991:2015

当前最新

NS-EN 15991:2015

 

 

适用范围

摘自：EN 15991:2011 本标准定义了一种测定粉末和颗粒状碳化硅中铝、钙、铬、铜、铁、镁、镍、钛、钒和锆等痕量元素浓度的方法。根据元素、波长、等离子体条件和重量，本测试方法适用于约 0.1 mg/kg 至约 1 000 mg/kg 的上述痕量污染物的质量含量，经评估后也可适用于 0.001 mg/kg 至约 5 000 mg/kg 的痕量污染物。注 1：通常，对于使用电感耦合等离子体 (ICP OES) 和电热汽化 (ETV) 的发射光谱法，线性工作范围高达四个数量级。通过改变重量或选择具有不同灵敏度的谱线，可以为相应的元素扩大该范围。经过充分验证后，本标准也适用于其他金属元素（除 Rb 和 Cs 外）和一些非金属污染物（如 P 和 S）以及其他相关非金属粉末或颗粒材料，如碳化物、氮化物、石墨、烟灰、焦炭、煤和一些其他氧化物（见 [1]、[4]、[5]、[6]、[7]、[8]、[9] 和 [10]）。注 2 对于石墨、B4C、Si3N4、BN 和几种金属氧化物等材料以及其中一些材料中 P 和 S 的测定，已有积极经验。