接触式光刻出现于20 世纪 60 年代,是小规模集成电路(SSI)时代的主要光刻手段,主要用于生产制程在 5μm 以上的集成电路。接近式光刻机于 20 世纪 70 年代在小规模集成电路与中规模集成电路(MSI)时代早期被广泛应用,主要用于生产制程在 3μm 以上的集成电路。...
3.2 我国IC产业存在问题现阶段,我国IC产业与欧美相比依然存在不小的差距,主要问题表现在如下几方面。一是IC产业技术创新滞后。我国在IC产业面起步晚,西方国家发达掌握大部分核心专利。我国IC产业专利创新能力不足,缺乏系统性和整体性。二是IC高端产品开发不足。低端消费电子领域占据了我国IC市场的大部分份额。高端工业智能制造以及航空航天领域份额小。三是供求不平衡。手机、家电等消费电子IC产能过剩。...
31440-2015 封闭式收费用非接触式IC卡收发卡机GB/T 31439.2-2015 波形梁钢护栏 第2部分:三波形梁钢护栏GB/T 31438-2015 混凝土灌注桩用钢薄壁声测管GB/T 31360-2015 固定资产核心元数据GB/T 31359-2015 半导体激光器测试方法GB/T 31358-2015 半导体激光器总规范GB/T 31112-2014 普通照明用非定向自镇流LED灯规格分类...
➢ 一方面,三大EDA公司有天然优势,在新工艺开发阶段与全球领先的晶圆制造厂进行全方位合作,因此对工 艺理解很到位。国内EDA厂商只能在工艺开发完以后拿到部分数据,无法接触到先进工艺的核心部分,难以 针对先进工艺设计、改良EDA软件,造成与三巨头的客观差距。 ➢ 另一方面,国内在PDK方面不足,对国产EDA发展不利。...
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