01痕量金属及无机元素杂质检测方案(1)VPD 溶液的分析气相分解- 电感耦合等离子体质谱联用(VPD-ICP-MS)法,具有业界所需的检测限和稳定性,测试结果快速可靠,广泛应用于硅晶片的测试,硅晶片的纯度一般要求在99.9999999%以上。纯度要求如此之高,这就到了ICP-MS 大显身手的时候了!...
电感耦合等离子体质谱分析法是将电感耦等离子体(ICP)技术和质谱(MS)技术结合起来, 利用等离子体作为离子源,由接口将等离子体中被 电离了的试样离子引入质谱仪,用质谱仪对离子进行质量分析(按m/Z比值将不同的离子分开)并检测记录,根据所得质谱图进行定性定量分析。ICP-MS的组成及工作条件:ICP-MS由ICP焰炬,接口装置和质谱仪三部分组成;若使其具有好的工作状态,必须设置各部分的工作条件。...
晶圆表面VPD-ICPMS检测方案在生产制造过程中,常用气相分解-电感耦合等离子体质谱联用(VPD-ICP-MS)方法检测硅晶片纯度,其纯度要求在99.9999999% 以上。...
采集数据比瞬时信号更快的纳米信号积分图悬浮物1~4归一化颗粒尺寸分布频次图扫描上方二维码即可下载右侧白皮书➡《使用单颗粒电感耦合等离子体质谱法(SP-ICP-MS)分析CeO2 化学机械抛光化浆料》On-line ICP-OES 在线监控磷酸中的硅含量在最新的立式3D NAND 闪存的生产工艺中,需要使用磷酸进行湿法刻蚀。...
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