ISO 11252:1993
激光和激光设备 激光装置 对文件的最低要求
Lasers and laser-related equipment; laser device; minimum requirements for documentation
ISO 11252:1993 发布历史
ISO 11252:1993由国际标准化组织 IX-ISO 发布于 1993-09。
ISO 11252:1993 在中国标准分类中归属于: L51 激光器件，在国际标准分类中归属于: 31.260 光电子学、激光设备。
ISO 11252:1993的历代版本如下：
- 2013年 ISO 11252:2013 激光和激光相关设备.激光装置.对文件的最低要求
- 2004年 ISO 11252:2004 激光和激光设备.激光装置.对文件的最低要求
- 1993年 ISO 11252:1993 激光和激光设备 激光装置 对文件的最低要求
本国际标准规定了激光设备提供的最低文件以及标记和标签信息要求。 该文档分为两个级别：作为技术数据表（第 5 条）和作为说明手册（第 6 条）。 本国际标准不适用于包含激光装置的激光产品。
推荐
高纯制氮机用于激光切割行业的优点
激光(受激辐射光放大)切割是通过一种基于受激电磁辐射的光放大过程来切割各种材料的技术。一些用于切割金属的工业应用是用二氧化碳激光和光纤激光切割设备。氮气作为一种高压气体辅助切割，吹扫清洗光路，和光学头。 典型的氮气激光成套系统流程是空气压缩机为氮气发生器提供气源。氮气从压缩空气中被分离出来，被集中在一个低压氮气储罐中，进而氮气再通过高压氮气增压装置从低压储罐进入最后的高压氮气储罐。 ...
用于检测亚原子级运动的NIST装置可应用于机器人和国土安全领域
根据等离子体激元装置反射的激光的量，就可以得到间隙的宽度和纳米颗粒的运动。例如，假设间隙由于纳米颗粒的运动而改变，使得等离子体激元的固有频率或谐振更接近于激光的频率。在这种情况下，等离子体激元能够从激光吸收更多的能量，并且反射较少的光。 ...