T/CNIA 0061-2020
硅外延用四氯化硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

Determination of Impurity Content in Silicon Tetrachloride for Silicon Epitaxy by Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry

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标准号

T/CNIA 0061-2020

发布

2020年

发布单位

中国团体标准

当前最新

T/CNIA 0061-2020

 

 

适用范围

本标准规定了用电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）测定硅外延用四氯化硅中硼、钠、镁、铝、钾、钙、磷、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、镓、砷、铅元素含量的方法。 本标准适用于硅外延用四氯化硅中硼、钠、镁、铝、钾、钙、磷、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、镓、砷、铅元素含量的测定。各元素测定下限为0.01 ng/g。

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