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(5) 针对等离子喷涂中金属熔滴飞行中的氧化与碰撞基体沉积后的氧化两种机制, 在熔融粒子含硼量充足的条件下, 前者被抑制, 而后者与沉积后的高温滞留时间呈正相关性, 因此, 强化熔滴沉积后的冷却过程, 可显著降低涂层氧含量。当在试样基体背面通过压缩空气强化冷却后,NiCrCuB 涂层的氧含量降低一半以上。 本文发表在《热喷涂技术》2021年第13卷第一期(总第47期)2021年3月:P1-P12。...
图1 不同涂层在腐蚀介质中浸泡30天前后的形貌图2 涂层在不同浸泡时长下的动电位极化曲线图3 涂层在不同浸泡时长下的电化学阻抗谱多尺度理论计算表明,磷酸盐通过静电力在PNMA链之间稳定,并促进了聚合物在铜表面的平行沉积。原位离子的时域空间扩散轨迹表明两种模型中腐蚀性离子扩散行为存在差异:PNMA中的腐蚀性离子具有膨胀的扩散轨迹,呈现跨涂层迁移的趋势;而复合涂层中的原位离子被限制在局部区域运动。...
图10 通过对金属锂反应的人造SEI层a)在Li-O2电池组装之前,在含有1 M LiF3SO3的TEGDME-FEC(5:1 v/v)电解质中,锂负极上保护膜的电化学形成;b)未处理的锂箔(上)和Li3PO4改性的锂箔(下)的形态演变。3.3.2 通过涂层制作人造SEI层与对金属锂的反应相比,涂层在控制组成、形态、机械强度和柔性方面具有优势。...
其中纳米受限模板主要包括阳极氧化铝(AAO)膜、聚碳酸酯(PC)膜以及介孔模板(SBA-15、CMK-3)等。而定向模板通常包括碳纳米纤维(CNFs)、碳纳米管(CNTs)、无机金属氧化物纳米线以及金属纳米线等。图4 在AAO膜中的多孔铂-钴合金纳米线的制备过程3.4 化学沉积法化学沉积法包括化学气相沉积(CVD)、电沉积以及原子层沉积(ALD)。CVD是合成半导体纳米线的常用方法。...
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