杨柳“ 对Fab工厂而言,控制晶圆、电子化学品、电子特气和靶材等原材料中的无机元素杂质含量至关重要,即便是超痕量的杂质都有可能造成器件缺陷。然而半导体杂质含量通常在ppt级,ICP-MS分析时用到的氩气及样品基体都很容易产生多原子离子干扰,标准模式、碰撞模式下很难在高本底干扰的情况下分析痕量的目标元素。...
所有这些都极大地改善了微燃料电池的特性,并提高了其中所使用的昂贵催化剂的耐久性。 另外,俄远东联邦大学和俄科学院远东分院自动化过程控制研究所开发出一种激光打印硅纳米颗粒的技术。该技术的优势在于速度快、制造成本低,能够用颗粒覆盖大面积的区域。这将使VR眼镜和其他电子产品变得更小,制造成本更低。硅纳米颗粒是生产微型光电开关、超薄计算机芯片、微生物传感器和遮蔽涂层的构建基元。...
关注我们,更多干货和惊喜好礼在指甲盖大小的芯片上布局几十亿个晶体管,集成电路是公认的、人类迄今制造过的最复杂的产品之一,已成为衡量一个国家产业竞争力和综合国力的重要标志。随着芯片制程从微米时代进入纳米时代,逐渐达到半导体制造设备和制造工艺的极限,杂质含量成为非常敏感的存在,对于产线的良率管理和提升成为半导体工业界面临的重要挑战!...
定性分析又分为主量定性和杂质测定,主要仪器以ICP-OES,ICP-MS和XRF为主;元素定量分析方法,以标准曲线法,标准加入法,基质匹配法和内标法为主。标准曲线法对多数基体相对简单的稀溶液适用,操作简单、快捷,但基体与标准溶液相差较大时,影响较大,不同元素影响不尽相同。标准加入法不需要高纯基体物质,能与样品基体完全匹配,但每个样品需分别做加标曲线,工作量大。...
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