03★ForgeNano★从毫克到千吨级粉体表面精密包覆解决方案Forge Nano 是全球领先的原子层沉积包覆方案供应商,可提供从研发到工业生产的“端到端”服务,团队基于独家的原子层沉积技术,可实现大批量的粉末原子层沉积包覆(kg-ton)以及超快平面沉积(12-30nm/min)。...
常见的粉末包覆改性的方式而在众多包覆方案中,原子层沉积技术(ALD:atomic layer deposition)由于其出色的薄膜致密性和均匀性,近年来受到越来越多的关注。原子层沉积技术是一种基于自限制性的化学半反应将被沉积物质以单原子膜的形式一层一层的镀在物体表面的薄膜技术。与常规的化学气相沉积不同,原子层沉积将完整的化学反应分解成多个半反应,从而实现单原子层级别的薄膜控制精度。...
而 Forge Nano 推出的基于原子层沉积技术的包覆手段,可以涵盖绝大多数粉末材料,实现均匀可控的包覆。ALD 在 Si 材料表面包覆 Zr原子层沉积技术(简称 ALD)通过交替性的鼓入不同前驱体,实现薄膜自限制性生长,是目前已知厚度控制最精确,均匀性最好的气相包覆技术,已被广泛地应用于半导体,微电子,催化,能源等领域。...
其中,表面包覆技术作为提升粉末物理化学性能的重要手段,长期一来一直缺乏有效的精密手段。传统的液相包覆或气相包覆手段都无法实现均匀以及厚度的精密控制,限制了包覆技术的进一步发展。原子层沉积技术(ALD)是一种自限制性的化学气相沉积手段,通过将目标反应拆解为若干个半反应,实现表面涂层的原子层级厚度控制。...
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