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四、真空法 这种方法是在高真空状态下令材料气化或离子化沉积于工件表面而形成镀层的过程。其主要方法是。 （一）物理气相沉积（PVD） 在真空条件下，将金属气化成原子或分子，或者使其离子化成离子，直接沉积到工件表面，形成涂层的过程，称为物理气相沉积，其沉积粒子束来源于非化学因素，如蒸发镀溅射镀、离子镀等。 ...
物理气相沉积(PVD)涂层已经大规模应用于高速切削刀具和精密模具领域，由于具有高的膜-基结合力、硬度和耐磨性，物理气相沉积多层硬质涂层可以数倍地提高刀具和模具的使用寿命。...
化学气相沉积不同于物理气相沉积（PVD）等其他常见的涂层应用方法，这些与化学气相沉积相比，大多数常见的涂层喷涂工艺会导致可近外盲区不均匀或没有的涂覆产生，化学气相沉积涂层可以使应用于涂层的气体能进入的任何区域，如上图形象看出两种涂覆的区别了。...
一些材料如硅，可以通过掺杂表面（改变或添加额外的化学物质）来进一步增强涂层的功能，以达到特定的性能目标。化学气相沉积不同于物理气相沉积（PVD）等其他常见的涂层应用方法，与化学气相沉积相比，大多数常见的涂层喷涂工艺会导致视线外盲区不均匀的涂覆存在，化学气相沉积涂层理论上可以应用于涂层气体能进入的任何区域，上图形象表示出两种涂覆的区别。...
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