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NF-NiS2经历电化学活化后的形貌和结构表征(a-b)NF-NiS2-A的 SEM图像和TEM图像。(c)NF-NiS2在电化学活化前、后的EDX谱图。(d) CC-NiS2、CC-NiS2-A、用Ar离子溅射CC-NiS2-A得到的Ni 2p高分辨XPS图谱,其中CC为碳布。...
技术资料 仪器型号 DUALSCOPE® MP0订货号509-485可测量的涂镀层系统(测量方法)NF, Iso/Fe 磁性钢铁基材上非磁性镀层和非导电涂层的厚度(磁感应方法) 和Iso/NF 非磁性金属 基材上非导电涂层的厚度(电涡流方法)测量范围NF,Iso/Fe 0 - 2000 µm (0 - 78 mils)Iso/NF 0 - 2000 µm (0 - 78 mils)测量误差以 Fischer...
NF3:是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体,是半导体工业用含氟清洗气体,同时也是是半导体与LCD产业制造过程中必备的材料。随着NF3替代PFCs或SF6应用于工业生产,其排放量显著增加,大气浓度以约12 %的年增速快速累积。...
400-1-2005 固定源排放.气相和粒相多环芳香烃的测定.第1部分:取样 NF T90-115-2004 水质.液-液萃取后用有荧光检测的高效液相色谱法(HPLC)测定水中15种多环芳香烃(PAH) NF T90-090-2004 水质.用液-液萃取后的有荧光检测的高效液相色谱法(HPLC)测定水中的15种多环芳香烃(PAH) NF X43-400-2-2004 固定源辐射.气体和粒子相位多环芳香烃的测定...
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