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AES的深度分析功能是AES最有用的分析功能，主要分析元素及含量随样品表面深度的变化。镀铜钢深度分析曲线采用能量为500eV～5keV的惰性气体氩离子溅射逐层剥离样品，并用俄歇电子能谱仪对样品原位进行分析，测量俄歇电子信号强度I （元素含量）随溅射时间t（溅射深度）的关系曲线,这样就可以获得元素在样品中沿深度方向的分布。在经过界面反应后，在PZT薄膜与硅基底间形成了稳定的SiO2界面层。...
DiP现在可提供实时、溅射过程中、无需校准的： 断面深度 镀层厚度 溅射速率 在DiP系统中，从相同的激光光源发出的两束光一束定向射向GD断面的中央，另一束定向射向靠近GD断面的完整样品表面。如果材料反射足够，反射光束被搜集和测量并给出精确测量的侵蚀率、镀层厚度以及断面深度。 DiP用于反射表面和材料如PVD涂层、LED、Si涂层等是非常理想的，而光谱椭偏仪则需要透明层。 ...
其优点是可以分析表面层较厚的体系,深度分析的速度较快。其分析原理是先把表面一定厚度的元素溅射掉,然后再用XPS分析剥离后的新鲜表面的元素含量,从而获得元素沿样品深度方向的分布。XPS的Ar离子溅射深度分析,灵敏度不如二次离子质谱(简称为SIMS),但在定量分析中显示的基体效应相对较小。另外,XPS的溅射深度分析的优点是对元素化学态敏感,并且XPS谱图比溅射型AES谱图容易解释。...
为了检验薄膜的抗腐蚀能力和膜基结合强度,对样品进行了电化学分析和压痕分析。对离子氮化后的样品进行X射线衍射分析,结果表明表面主要为三氮化二铀。离子氮化后至镀膜之前,需要经过一系列的镀膜前处理,考察氮化铀在镀膜前处理过程中的稳定性,采用俄歇电子能谱深度剖析对前处理过程中的氮化铀样品进行分析,结果表明,氮化铀在短时间大气放置、真空烘烤过程中基本无变化,氩离子溅射处理过程对氮化铀表面产生一定的影响。...
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