ASTM UOP303-19
通过 ICP-OES 分析催化剂中的杂质

Impurities in Catalysts by ICP-OES

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标准号

ASTM UOP303-19

发布

2019年

发布单位

美国材料与试验协会

当前最新

ASTM UOP303-19

 

 

适用范围

该方法用于通过电感耦合等离子体发射光谱 (ICP-OES) 测定新鲜、再生和废氧化铝、二氧化硅或铝硅酸盐（二氧化硅/氧化铝）基催化剂中的痕量金属。通常测定的金属包括钙（Ca）、铬（Cr）、钴（Co）、铜（Cu）、铁（Fe）、铅（Pb）、镁（Mg）、锰（Mn）、钼（Mo）、镍（Ni）、钾（K）、硅（Si）、钠（Na）、锡（Sn）、钛（Ti）、钒（V）和锌（Zn）。当硅是催化剂基质的组分时，不测定硅。砷 (As) 和磷 (P) 可以测定，但新鲜催化剂上通常不存在。然而，它们可以存在于再生或废催化剂上。由于硫酸钡沉淀且汞挥发，因此无法测定钡 (Ba) 和汞 (Hg)。可以使用 UOP 方法 926“通过四硼酸锂聚变/ICP-OES 测定新鲜催化剂中的硅和铝”中描述的聚变技术来测定钡。如果需要，也可以确定其他元素。指定元素可在表 1 列出的浓度范围内测定。典型浓度范围为 0.005-1.0 质量%。

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