MicroWriter激光直写系统使用375nm激光曝光SU8光刻胶结构 您只要写信给application@qd-china.com就可以带样品来我们的实验室体验Microwiter Baby真机。无掩膜激光直写光刻系统:http://www.qd-china.com/products2.aspx?...
曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。 曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有汞灯,准分子激光器等。...
第一种是接近接触式光刻,这也是结构最简单的光刻机。将掩模版与被刻基片尽可能接近,然后紫外光会对光刻胶进行曝光。它最大的问题在于:如果要制造芯片,就必须制作同等精细度的掩模版(变成了套娃)。此外掩模版可能与光刻胶直接接触,可能对芯片造成污染。因此这种光刻机只能达到微米级。第二种是直写光刻,直写光刻就像是打印,直接用强激光束将所需电路一点点刻出来,听到这里你可能已经发现了它的缺点,太慢了。...
无掩模光刻机又称直写光刻机,按照所采用的辐射源的不同可分为电子束直写光刻机、离子束直写光刻机、激光直写光刻机,分别用于不同的特定应用领域。例如,电子束直写光刻机主要用于高分辨率掩模版、集成电路原型验证芯片的制造,以及特种器件的小批量制造;激光直写光刻机主要用于特定的小批量芯片的制造。光刻机分类 资料来源:SMEE有掩模光刻机又分为接触/接近式光刻机和投影式光刻机。...
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