T/IAWBS 005—2018
6 英寸碳化硅单晶抛光片

6 inch polished monocrystalline silicon carbide wafers


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T/IAWBS 005—2018



标准号
T/IAWBS 005—2018
发布日期
2018年12月06日
实施日期
2019年04月12日
废止日期
中国标准分类号
C398
国际标准分类号
29.045
发布单位
中国团体标准
适用范围
本标准适用于6 英寸4H 及6H 碳化硅单晶研磨片经单面或双面抛光后制备的碳化硅抛光片。规定了6 英寸4H 及6H 碳化硅单晶抛光片的必要的相关性术语、产品分类、技术要求、试验方法、检测规则以及标志、包装、运输、贮存等。本标准规定了碳化硅抛光片的晶向为碳化硅抛光片表面取向的正交晶向偏离为:a) 正晶向:0° ± 0.5°; b) 偏晶向:碳化硅抛光片的晶向偏离为晶片表面法线沿主定位边方向偏向[1120]方向4°±0.5°或其它角度。同时本标准还规定了表面缺陷、微管密度、结晶质量、电阻率、多型、位错密度等内容。




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