IEC 62047-26:2016
半导体器件. 微型机电装置. 第26部分: 微槽和针孔结构的描述和测量方法
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 26: Description and measurement methods for micro trench and needle structures
- 标准号
- IEC 62047-26:2016
- 发布
- 2016年
- 发布单位
- 国际电工委员会
- 当前最新
- IEC 62047-26:2016
- 被代替标准
- IEC 47F/233/FDIS:2015
- 适用范围
- IEC 62047的这一部分规定了微米尺度的沟槽结构和针结构的描述。此外，它还提供了两种结构的几何形状的测量示例。对于沟槽结构，本标准适用于深度为1μm至100μm的结构；墙壁和沟槽的宽度分别为 5 µm 至 150 µm；长宽比为 0,006 7 至 20。对于针状结构，该标准适用于具有三个或四个面、高度、水平宽度和垂直宽度为 2 µm 或更大，且尺寸适合边长为 100 的立方体的结构微米。本标准适用于MEMS的结构设计以及MEMS工艺后的几何评估。
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